text":"与台积电、三星相比 ， Intel这几年在半导体工艺上放慢了脚步 ， 这里面原因有很多 ， 不过一个重要因素就是Intel一直认为EUV光刻工艺不成熟 ， 他们追求的是在没有EUV光刻机的情况下开发7nm甚至5nm工艺 ， 结果耽误了时间 。
面对对手在EUV光刻上的领先 ， Intel现在也加快脚步了 ， 原先叫做7nm的节点现在改名为Intel 4 ， 这是Intel第一个使用EUV光刻机的工艺 。
日前在接受媒体采访时 ， Intel逻辑工艺开发总经理Sanjay Natarajan确认 ， Intel已经确认EUV光刻工艺可以达到用于生产的地步 ， Intel也会迅速转向该工艺 ， EUV可以简化很多工艺流程 ， 将30步工艺减少为3步操作 ， 降低了出错的可能 。
Sanjay Natarajan确认 ， Intel第一代EUV光刻的处理器会在2023年出货 ， 桌面版是Meteor Lake ， 服务器端则是Granite Rapids处理器 。
【电池|30步工艺缩减为3步：Intel全面拥抱EUV光刻！】Meteor Lake处理器大家很熟悉了 ， 这就是2023年要发布的14代酷睿 ， 除了EUV工艺之外 ， 还会使用先进的3D封装 ， 分为多个模块 ， 其中CPU计算模块的IP已经tape in ， 今年底或者明年初应该就流片了 。
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