ASML 分享 High-NA EUV 光刻机最新进展：目标 2024-2025 年进厂( 二 ) _英特尔

有趣的是，早在 2020 ~ 2021 年，ASML 就表示已经收到了三家客户的 High-NA 意向订单，共提供多达 12 套系统。目前可以肯定的是，英特尔、三星和台积电必然会拿下2020 ~ 2021 年预生产的 High-NA 机器。
此外，ASML 已经开始生产其首个 High-NA 光刻系统，预计将于 2023 年完成（原型机），并将被 Imec 和 ASML 客户用于研发用途。

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ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示:“在 High-NA EUV 方面，我们取得了良好的进展，目前已经开始在我们位于维尔德霍芬的新无尘空间中打造第一个 High-NA 光刻”，“在第一季度，我们收到了多份 EXE:5200 系统的订单。我们这个月也还收到额外的 EXE:5200 订单。我们目前已有来自三个逻辑芯片和两个存储芯片客户的 High-NA 订单。EXE:5200 是 ASML 的下一代高 NA 系统，将为光刻技术的性能和生产力提供下一步的发展。”

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ASML 的 Twinscan EXE:5200 比普通的 Twinscan NXE:3400C 机器要复杂得多，因此打造这些机器也需要更长的时间。该公司希望在未来中期能够交付 20 套 High-NA 系统，这可能意味着其客户将不得不进行竞争。
“我们也在与我们的供应链伙伴讨论，以确保中期大约 20 个 EUV 0.55NA 系统的交付能力， ”Wennink 说。
到目前为止，唯一确认使用 ASML High-NA 光刻机的是英特尔 18A 节点，英特尔计划在 2025 年进入大批量生产，而 ASML 也是大约在那时开始交付其 High-NA EUV 系统。但最近英特尔已经将其 18A 的生产规划推迟到 2024 年下半年，并表示可以使用 ASML 的 Twinscan NXE:3600D 或 NXE:3800E 来生产，可能是通过多重曝光模式。
从这一点来看，英特尔的 18A 技术毫无疑问会大大受益于 High-NA EUV 工具，但也并非完全离不开Twinscan EXE:5200 机器。在商言商，虽然 18A 不一定需要新机器，但多重曝光模式意味着更长的产品周期、更低的生产率、更高的风险、更低的收益率，和更难的竞争。所以，英特尔肯定也希望它的 18A 节点尽快到来，从而重铸往日荣光，好从台积电手中夺回曾经的地位。
【ASML 分享 High-NA EUV 光刻机最新进展：目标 2024-2025 年进厂】《每台价值 4 亿美元：ASML 正研发的下一代 High-NA 光刻机有望于 2023 年上半年亮相》