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半导体|自研率超80%，国产蚀刻机突破技术壁垒，卡住台积电5nm生产线

半导体|自研率超80%，国产蚀刻机突破技术壁垒，卡住台积电5nm生产线
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在芯片制造过程中 ， 除了离不开广为人知的光刻机之外 ， 还需要一项重要程度不亚于光刻机的核心设备 ， 那就是蚀刻机 。 而我们国内虽然在光刻机领域严重受制于国外供应商 ， 但是国产蚀刻机却突破了技术壁垒 ， 并且还能卡住台积电的5nm生产线 。
那么蚀刻机到底是一种怎样的设备呢？国产蚀刻机又是如何实现逆势崛起 ， 达到全球顶尖水平的呢？
蚀刻机的重要性其实蚀刻机说起来与光刻机差不多 ， 都是一种尤为关键的半导体设备 ， 能在芯片制造环节中发挥出不可替代的重要作用 。 芯片生产主要有三个核心步骤 ， 分别是光刻、刻蚀和沉积 ， 其中光刻需要的就是光刻机 ， 而刻蚀则仰仗蚀刻机 。
可能平时大多数人都比较关注光刻机 ， 而对蚀刻机没什么印象 ， 这是因为光刻机是国产芯片最大的短板 ， 近几年随着国内对芯片产业重视程度的加强 ， 光刻机自然也受到了广泛的关注 。
然而需要注意的是 ， 蚀刻机的重要性与光刻机是在同一水平上的 ， 半导体行业普遍认为 ， 没有光刻机 ， 芯片制造过程就无法完成 ， 但如果只有光刻机而没有蚀刻机 ， 那么同样造不出芯片 。 这是各大芯片代工厂用几十年的经验得出的结果 ， 蚀刻机不可或缺 。
就拿台积电来说 ， 作为全球排名第一的芯片制造商 ， 其使用的技术和设备 ， 无疑都是同类产品中最先进的 。 例如ASML的EUV光刻机 ， 每年都优先供给台积电 ， 但是在蚀刻机方面 ， 台积电却会被国产厂商卡脖子 ， 其5nm生产线需要国产蚀刻机的参与 。
尽管国内的光刻机产业不怎么发达 ， 时至今日连一台EUV光刻机都不曾拥有 ， 但蚀刻机却是国产技术的强项 ， 国外的技术壁垒已经被彻底打破了 。 而这方面的优势 ， 将成为国产芯片的核心竞争力 ， 能够推动国内半导体事业的进一步发展 。
尤其是最近两年 ， 美国越发地变本加厉 ， 不仅禁止美企向华为等国产公司提供芯片产品 ， 还要求那些含有美企技术的厂商 ， 在出货之前都必须申请相应的许可证 。 这种局面直接导致国产芯片面临了很大的压力 ， 现在只有坚定不移地自主研发 ，才能迎来转机 。
而就这么多年的情况来看 ， 国内对芯片的研究已经很深入了 ， 技术层面并不逊色于国外厂商 ， 像华为海思、中芯国际等 ， 都是全球顶尖的半导体巨头 。 但唯独在半导体设备方面 ， 由于国外长期的技术垄断和人才封锁 ， 国内始终未能取得较大的突破 。
其中光刻机就是最明显的例子 ， 如今国内最先进的光刻机 ， 不过才28nm精度 ， 离ASML的EUV光刻机 ， 还有很大的差距 。 因此 ， 当前国产芯片最需要解决的问题就是设备方面的短板 ， 国产光刻机和蚀刻机 ， 都是必须要攻克的目标 。

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