光刻机|叹为观止！ASML透露尖端光刻机技术，难怪我们造不出尖端光刻机
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近期 ， 荷兰ASML透露了一段关于尖端光刻机的技术 ， 涉及精准量测、精密机械、精准定位、光、磁的掌握 ， 其技术先进程度让人叹为观止 。 首先先介绍一下纳米、微米的概念 ， 1 微米 = 1000 纳米；而1微米相当于1毫米的千分之一 ， 我们一根头发约为60～90微米 。
晶圆平台模组 ， 通过这个模组 ， ASML最先进的 DUV 光刻机 ， 每小时可以完成 300 片晶圆的光刻 ， 完成一片晶圆只需要 12 秒 ， 刨除装载时间 ， 完成 1 个影像单元（Field）的曝光约 0.1 秒 。 平衡模组 ， 晶圆平台移动时速度为 7g 的加速度 ， 等同于汽车从 0 加速到 100km/h 只需约 0.4 秒 。 为了不引起平台振动 ， ASML 光刻机采用了balance mass模组来吸收平衡晶圆平台所施加于机座的反作用力 ， 完美平衡 ， 整座机台完全静止 ， 稳如泰山 。
极精密量测 ， ASML 光刻机通过上述模组 ， 可实现每秒两万次量测定位校正 ， 以精度达到 60 皮米（0.06 纳米）的传感器确认精准定位 ， 套刻精度（overlay） ， 可以达到 1~2 纳米 。 悬浮工作模式 ， ASML 晶圆均采用悬浮技术进行移动 ， 一种为Twinscan XT 气浮方式 ， 以及最新的Twinscan NXT 磁悬浮方式 。 借由无接触的移动方式 ， 达成极高速的运动和持久稳定的运作 。
【光刻机|叹为观止！ASML透露尖端光刻机技术，难怪我们造不出尖端光刻机】
最终实现365天24小时 ， 每天完成光刻 6000 片以上的晶圆的任务 ， 小编感觉 ， 这应该算是目前人类科技的巅峰了吧 。
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